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Landesman, J.-P., Jimenez, J., Levallois, C., Pommereau, F., Frigeri, C., Torres, A., Leger, Y., Beck, A. & Rhallabi, A. (2016) Defect formation during chlorine-based dry etching and their effects on the electronic and structural properties of InP/InAsP quantum wells. Journal of Vacuum Science & Technology A, 34 041304.
Added by: Richard Baschera (2016-08-24 13:18:19) Last edited by: Richard Baschera (2016-08-24 13:40:11) |
| Type de référence: Article DOI: 10.1116/1.4950445 Numéro d'identification (ISBN etc.): 0734-2101 Clé BibTeX: Landesman2016 Voir tous les détails bibliographiques  |
Catégories: INTERNATIONAL, PCM Créateurs: Beck, Frigeri, Jimenez, Landesman, Leger, Levallois, Pommereau, Rhallabi, Torres Collection: Journal of Vacuum Science & Technology A |
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