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Gaboriau, F., Cartry, G., Peignon, M. C. & Cardinaud, C. (2006) Etching mechanisms of Si and SiO2 in fluorocarbon ICP plasmas: Analysis of the plasma by mass spectrometry, Langmuir probe and optical emission spectroscopy. J. Phys. D-Appl. Phys. 39 1830–1845.
Added by: Florent Boucher 2016-05-12 13:21:37	Pop. 0.75%