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Raballand, V., Cartry, G. & Cardinaud, C. (2007) Porous SiOCH, SiCH and SiO2 etching in high density fluorocarbon plasma with a pulsed bias. Plasma Process. Polym. 4 563–573.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 22:02:29 Pop. 1%
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