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Mot-clé:  plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD)
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Dubosc, M., Casimirius, S., Besland, M. .-P., Cardinaud, C., Granier, A., Duvail, J. .-L., Gohier, A., Minea, T., Arnal, V. & Torres, J. (2007) Impact of the Cu-based substrates and catalyst deposition techniques on carbon nanotube growth at low temperature by PECVD. Microelectron. Eng. 84 2501–2505.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 22:02:29 Pop. 0.75%
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