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Marcos, G., Rhallabi, A. & Ranson, P. (2008) Properties of deep etched trenches in silicon: Role of the angular dependence of the sputtering yield and the etched species redeposition. Appl. Surf. Sci. 254 3576–3584.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:58:42 Pop. 1%
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