IMN

Biblio. IMN

Liste de références

Affichage de 1 - 1 de 1 (Bibliographie: Bibliographie WIKINDX globale)
Paramètres :
Mot-clé:  plasma materials processing
Ordonner par

Croissant
Décroissant
Utiliser tout ce qui est coché 
Utiliser tout ce qui est affiché 
Utiliser tous les items 
Pereira, J., Pichon, L. E., Dussart, R., Cardinaud, C., Duluard, C. Y., Oubensaid, E. H., Lefaucheux, P., Boufnichel, M. & Ranson, P. (2009) In situ x-ray photoelectron spectroscopy analysis of SiOxFy passivation layer obtained in a SF6/O-2 cryoetching process. Appl. Phys. Lett. 94 071501.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:41:24 Pop. 1%
wikindx 4.2.2 ©2014 | Références totales : 2859 | Requêtes métadonnées : 30 | Exécution de script : 0.09721 secs | Style : Harvard | Bibliographie : Bibliographie WIKINDX globale