Javascript is disabled or not supported in your browser. JavaScript must be enabled in order for you to use WIKINDX fully. Enable JavaScript through your browser options then try again, otherwise, try using a different browser.

Biblio. IMN

Wikindx
Références
- Signets...
  - Ajouter
- Référence au hasard
- Dernière liste consultée
Recherche
- Recherche simple
- Recherche avancée
- Sélection par critères
- Lister tout par...
- Parcourir par...
  - Type
  - Créateur
  - Citation
  - Collection...
    - Tout
    - Livre
    - Revue
    - Actes
  - Éditeurs...
    - Tout
    - Livre
    - Conférence
  - Année
  - Mots-clés
  - Catégorie
  - Sous-catégorie
  - Langue
  - Utilisateur
  - Département
  - Institution
- Catégories

Liste de références

Affichage de 1 - 2 de 2 (Bibliographie: Bibliographie WIKINDX globale)
Paramètres :
Mot-clé: low-k films

Ordonner par

Croissant
Décroissant

Utiliser tout ce qui est coché
Utiliser tout ce qui est affiché
Utiliser tous les items

Bailly, F., David, T., Chevolleau, T., Darnon, M., Posseme, N., Bouyssou, R., Ducote, J., Joubert, O. & Cardinaud, C. (2010) Roughening of porous SiCOH materials in fluorocarbon plasmas. J. Appl. Phys. 108 014906.
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:37:32	Pop. 1%
Raballand, V., Cartry, G. & Cardinaud, C. (2007) A model for Si, SiCH, SiO2, SiOCH, and porous SiOCH etch rate calculation in inductively coupled fluorocarbon plasma with a pulsed bias: Importance of the fluorocarbon layer. J. Appl. Phys. 102 063306.
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 22:02:29	Pop. 0.75%