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Mot-clé:  CH4-based plasma
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Boulard, F., Baylet, J. & Cardinaud, C. (2010) Influence of Cadmium Composition on CH4-H-2-Based Inductively Coupled Plasma Etching of Hg1-x Cd (x) Te. J. Electron. Mater. 39 1256–1261.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:37:32 Pop. 1.75%
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