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Rhallabi, A., Chanson, R., Landesman, J. .-P., Cardinaud, C. & Fernandez, M. .-C. (2011) Atomic scale study of InP etching by Cl-2-Ar ICP plasma discharge.
Eur. Phys. J.-Appl. Phys
, 53 33606.
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:32:21
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