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Chanson, R., Rhallabi, A., Fernandez, M. C., Cardinaud, C., Bouchoule, S., Gatilova, L. & Talneau, A. (2012) Global Model of Cl-2/Ar High-Density Plasma Discharge and 2-D Monte-Carlo Etching Model of InP.
IEEE Trans. Plasma Sci.
40 959–971.
Ajoutée par : Laurent Cournède 2016-03-10 21:28:39
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