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Mot-clé:  Microwave plasma induced chemical vapor deposition
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Bulou, S., Le Brizoual, L., Miska, P., de Poucques, L., Bougdira, J. & Belmahi, M. (2012) Wide variations of SiCxNy:H thin films optical constants deposited by H-2/N-2/Ar/hexamethyldisilazane microwave plasma. Surf. Coat. Technol. 208 46–50.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:28:38 Pop. 0.75%
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