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Chanson, R., Rhallabi, A., Fernandez, M. C., Cardinaud, C. & Landesman, J. P. (2013) Modeling of inductively coupled plasma Ar/Cl-2/N-2 plasma discharge: Effect of N-2 on the plasma properties. J. Vac. Sci. Technol. A, 31 011301.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:23:32 Pop. 1%
Pateau, A., Rhallabi, A., Fernandez, M.-C., Boufnichel, M. & Roqueta, F. (2014) Modeling of inductively coupled plasma SF6/O-2/Ar plasma discharge: Effect of O-2 on the plasma kinetic properties. J. Vac. Sci. Technol. A, 32 021303.   
Added by: Florent Boucher 2016-04-29 09:26:44 Pop. 0.75%
Rhallabi, A., Chanson, R., Landesman, J. .-P., Cardinaud, C. & Fernandez, M. .-C. (2011) Atomic scale study of InP etching by Cl-2-Ar ICP plasma discharge. Eur. Phys. J.-Appl. Phys, 53 33606.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:32:21 Pop. 1%
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