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Achour, A., Aissa, A. K., Mbarek, M., El Hadj, K., Ouldhamadouche, N., Barreau, N., Le Brizoual, L. & Djouadi, M. A. (2013) Enhancement of near-band edge photoluminescence of ZnO film buffered with TiN. Thin Solid Films, 538 71–77.
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:23:30	Pop. 1.75%
Bernede, J. C., Houari, S., Nguyen, D., Jouan, P. Y., Khelil, A., Mokrani, A., Cattin, L. & Predeep, P. (2012) XPS study of the band alignment at ITO/oxide (n-type MoO3 or p-type NiO) interface. Phys. Status Solidi A-Appl. Mat. 209 1291–1297.
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:28:39	Pop. 1%
Challali, F., Besland, M. P., Benzeggouta, D., Borderon, C., Hugon, M. C., Salimy, S., Saubat, J. C., Charpentier, A., Averty, D., Goullet, A. & Landesman, J. P. (2010) Investigation of BST thin films deposited by RF magnetron sputtering in pure Argon. Thin Solid Films, 518 4619–4622.
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:37:32	Pop. 1%
Edon, V., Li, Z., Hugon, M. .-C., Krug, C., Bastos, K. P., Miotti, L., Baumvol, I. J. R., Cardinaud, C., Durand, O. & Eypert, C. (2008) Electrical properties and interfacial characteristics of RuO2/HfAlOx/SiON/Si and RuO2/LaAlO3/SiON/Si capacitors. J. Electrochem. Soc. 155 H661–H668.
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:58:43	Pop. 1.75%
Edon, V., Hugon, M. .-C., Agius, B., Durand, O., Eypert, C. & Cardinaud, C. (2008) Investigation of lanthanum and hafnium-based dielectric films by X-ray reflectivity, spectroscopic ellipsometry and X-ray photoelectron spectroscopy. Thin Solid Films, 516 7974–7978.
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:58:41	Pop. 0.75%
Raballand, V., Cartry, G. & Cardinaud, C. (2007) Porous SiOCH, SiCH and SiO2 etching in high density fluorocarbon plasma with a pulsed bias. Plasma Process. Polym. 4 563–573.
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 22:02:29	Pop. 1%