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Gaucher, A., Baylet, J., Rothman, J., Martinez, E. & Cardinaud, C. (2013) Characterization of Plasma Etching Process Damage in HgCdTe. J. Electron. Mater. 42 3006–3014.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:23:29 Pop. 1%
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