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Haidar, Y., Rhallabi, A., Pateau, A., Mokrani, A., Taher, F., Roqueta, F. & Boufnichel, M. (2016) Simulation of cryogenic silicon etching under SF6/O-2/Ar plasma discharge. J. Vac. Sci. Technol. A, 34 061306.   
Last edited by: Richard Baschera 2017-02-02 13:42:02 Pop. 1%
Jacq, S., Cardinaud, C., Le Brizoual, L. & Granier, A. (2013) H atom surface loss kinetics in pulsed inductively coupled plasmas. Plasma Sources Sci. Technol. 22 055004.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:23:29 Pop. 1%
Pereira, J., Pichon, L. E., Dussart, R., Cardinaud, C., Duluard, C. Y., Oubensaid, E. H., Lefaucheux, P., Boufnichel, M. & Ranson, P. (2009) In situ x-ray photoelectron spectroscopy analysis of SiOxFy passivation layer obtained in a SF6/O-2 cryoetching process. Appl. Phys. Lett. 94 071501.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:41:24 Pop. 1%
Rhallabi, A., Liu, B., Landesman, J. P. & Lecler, J. L. (2006) InP etching by chlorine ICP plasma for photonic crystal applications: Experiments and simulations New York, Ieee.   
Added by: Florent Boucher 2016-05-12 13:21:38 Pop. 1%
Salah, F., Harzallah, B., van der Lee, A., Angleraud, B., Begou, T. & Granier, A. (2013) X-ray reflectometry study of diamond-like carbon films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition in a low pressure inductively coupled plasma. Thin Solid Films, 537 102–107.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:23:30 Pop. 0.75%
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