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Haidar, Y., Pateau, A., Rhallabi, A., Fernandez, M. C., Mokrani, A., Taher, F., Roqueta, F. & Boufnichel, M. (2014) SF6 and C4F8 global kinetic models coupled to sheath models. Plasma Sources Sci. Technol. 23 065037.
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:01:54	Pop. 1.25%
Marcos, G., Rhallabi, A. & Ranson, P. (2008) Properties of deep etched trenches in silicon: Role of the angular dependence of the sputtering yield and the etched species redeposition. Appl. Surf. Sci. 254 3576–3584.
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:58:42	Pop. 1%