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Bouchoule, S., Vallier, L., Patriarche, G., Chevolleau, T. & Cardinaud, C. (2012) Effect of Cl-2- and HBr-based inductively coupled plasma etching on InP surface composition analyzed using in situ x-ray photoelectron spectroscopy. J. Vac. Sci. Technol. A, 30 031301.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:28:39 Pop. 1%
Chanson, R., Bouchoule, S., Cardinaud, C., Petit-Etienne, C., Cambril, E., Rhallabi, A., Guilet, S. & Blanquet, E. (2014) X-ray photoelectron spectroscopy analysis of the effect of temperature upon surface composition of InP etched in Cl-2-based inductively coupled plasma. J. Vac. Sci. Technol. B, 32 011219.   
Added by: Florent Boucher 2016-04-29 09:26:45 Pop. 1%
Elmonser, L., Rhallabi, A., Gaillard, M., Landesman, J. P., Talneau, A., Pommereau, F. & Bouadma, N. (2007) Modeling of the chemically assisted ion beam etching process: Application to the GaAs etching by Cl-2/Ar+. J. Vac. Sci. Technol. A, 25 126–133.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 22:02:31 Pop. 1.5%
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