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Duquenne, C., Tessier, P. Y., Besland, M. P., Angleraud, B., Jouan, P. Y., Aubry, R., Delage, S. & Djouadi, M. A. (2008) Impact of magnetron configuration on plasma and film properties of sputtered aluminum nitride thin films. J. Appl. Phys. 104 063301.
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:58:41	Pop. 1.5%
Haidar, Y., Rhallabi, A., Pateau, A., Mokrani, A., Taher, F., Roqueta, F. & Boufnichel, M. (2016) Simulation of cryogenic silicon etching under SF6/O-2/Ar plasma discharge. J. Vac. Sci. Technol. A, 34 061306.
Last edited by: Richard Baschera 2017-02-02 13:42:02	Pop. 1%