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Bouchoule, S., Vallier, L., Patriarche, G., Chevolleau, T. & Cardinaud, C. (2012) Effect of Cl-2- and HBr-based inductively coupled plasma etching on InP surface composition analyzed using in situ x-ray photoelectron spectroscopy. J. Vac. Sci. Technol. A, 30 031301.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:28:39 Pop. 1%
Boulard, F., Baylet, J. & Cardinaud, C. (2010) Influence of Cadmium Composition on CH4-H-2-Based Inductively Coupled Plasma Etching of Hg1-x Cd (x) Te. J. Electron. Mater. 39 1256–1261.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:37:32 Pop. 1.75%
Chanson, R., Bouchoule, S., Cardinaud, C., Petit-Etienne, C., Cambril, E., Rhallabi, A., Guilet, S. & Blanquet, E. (2014) X-ray photoelectron spectroscopy analysis of the effect of temperature upon surface composition of InP etched in Cl-2-based inductively coupled plasma. J. Vac. Sci. Technol. B, 32 011219.   
Added by: Florent Boucher 2016-04-29 09:26:45 Pop. 1%
Godet, L., Radovanov, S., Sheuer, J., Cardinaud, C., Fernandez, N., Ferro, Y. & Cartry, G. (2012) Ion energy distributions measured inside a high-voltage cathode in a BF3 pulsed dc plasma used for plasma doping: experiments and ab initio calculations. Plasma Sources Sci. Technol. 21 065006.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:28:38 Pop. 1%
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