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Eon, D., Raballand, V., Cartry, G. & Cardinaud, C. (2007) High density fluorocarbon plasma etching of methylsilsesquioxane SiOC(H) low-k material and SiC(H) etch stop layer: surface analyses and investigation of etch mechanisms. J. Phys. D-Appl. Phys. 40 3951–3959.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 22:02:29 Pop. 0.75%
Haidar, Y., Rhallabi, A., Pateau, A., Mokrani, A., Taher, F., Roqueta, F. & Boufnichel, M. (2016) Simulation of cryogenic silicon etching under SF6/O-2/Ar plasma discharge. J. Vac. Sci. Technol. A, 34 061306.   
Last edited by: Richard Baschera 2017-02-02 13:42:02 Pop. 1%
Han, J.-F., Liao, C., Jiang, T., Xie, H.-M. & Zhao, K. (2014) Investigation of Cu(In,Ga)Se-2 polycrystalline growth: Ga diffusion and surface morphology evolution. Mater. Res. Bull. 49 187–192.   
Last edited by: Richard Baschera 2016-05-24 14:00:24 Pop. 1.25%
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