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Edon, V., Hugon, M. .-C., Agius, B., Durand, O., Eypert, C. & Cardinaud, C. (2008) Investigation of lanthanum and hafnium-based dielectric films by X-ray reflectivity, spectroscopic ellipsometry and X-ray photoelectron spectroscopy. Thin Solid Films, 516 7974–7978.
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:58:41	Pop. 0.75%
Ghamouss, F., Tessier, P. .-Y., Djouadi, A., Besland, M. .-P. & Boujtita, M. (2007) Screen-printed carbon electrode modified on its surface with amorphous carbon nitride thin film: Electrochemical and morphological study. Electrochim. Acta, 52 5053–5061.
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 22:02:30	Pop. 1.75%
Jun-feng, H., Liu, X., Li-mei, C., Hamon, J. & Besland, M. P. (2015) Investigation of oxide layer on CdTe film surface and its effect on the device performance. Mater. Sci. Semicond. Process, 40 402–406.
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 18:36:40	Pop. 1%
Rouahi, A., Challali, F., Dakhlaoui, I., Vallee, C., Salimy, S., Jomni, F., Yangui, B., Besland, M. P., Goullet, A. & Sylvestre, A. (2016) Structural and dielectric characterization of sputtered Tantalum Titanium Oxide thin films for high temperature capacitor applications. Thin Solid Films, 606 127–132.
Last edited by: Richard Baschera 2016-06-03 13:58:09	Pop. 1%
Rouahi, A., Kahouli, A., Challali, F., Besland, M. P., Vallee, C., Pairis, S., Yangui, B., Salimy, S., Goullet, A. & Sylvestre, A. (2012) Dielectric relaxation study of amorphous TiTaO thin films in a large operating temperature range. J. Appl. Phys. 112 094104.
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:28:38	Pop. 0.75%