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Auteur:  Le Dain
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Le Dain, G., Rhallabi, A., Cardinaud, C., Girard, A., Fernandez, M.-C., Boufnichel, M. & Roqueta, F. (2018) Modeling of silicon etching using Bosch process: Effects of oxygen addition on the plasma and surface properties. Journal of Vacuum Science & Technology A, 36 03E109.   
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Le Dain, G., Rhallabi, A., Girard, A., Cardinaud, C., Roqueta, F. & Boufnichel, M. (2019) Modeling of C4F8 inductively coupled plasmas: effects of high RF power on the plasma electrical properties. Plasma Sources Science & Technology, 28 085002.   
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Le Dain, G., Rhallabi, A., Fernandez, M. C., Boufnichel, M. & Roqueta, F. (2017) Multiscale approach for simulation of silicon etching using SF6/C4F8 Bosch process. Journal of Vacuum Science & Technology A, 35 03E113.   
Last edited by: Richard Baschera 2017-07-07 14:56:51 Pop. 0.75%
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