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Godet, L., Fang, Z., Radovanov, S., Walther, S., Arevalo, E., Lallement, F., Scheuer, J. T., Miller, T., Lenoble, D., Cartry, G. & Cardinaud, C. (2006) Plasma doping implant depth profile calculation based on ion energy distribution measurements. J. Vac. Sci. Technol. B, 24 2391–2397.   
Ajoutée par : Florent Boucher 2016-05-12 13:21:36 Pop. 1%
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