IMN

Biblio. IMN

Liste de références

Affichage de 1 - 2 de 2 (Bibliographie: Bibliographie WIKINDX globale)
Paramètres :
Collection:  Journal of Applied Physics
Ordonner par

Croissant
Décroissant
Utiliser tout ce qui est coché 
Utiliser tout ce qui est affiché 
Utiliser tous les items 
Keraudy, J., Delfour-Peyrethon, B., Ferrec, A., Molleja, J. G., Richard-Plouet, M., Payen, C., Hamon, J., Corraze, B., Goullet, A. & Jouan, P.-Y. (2017) Process- and optoelectronic-control of NiOx thin films deposited by reactive high power impulse magnetron sputtering. Journal of Applied Physics, 121 171916.   
Last edited by: Richard Baschera 2017-07-07 14:36:40 Pop. 0.5%
Rupp, J. A. J., Querre, M., Kindsmueller, A., Besland, M.-P., Janod, E., Dittmann, R., Waser, R. & Wouters, D. J. (2018) Different threshold and bipolar resistive switching mechanisms in reactively sputtered amorphous undoped and Cr-doped vanadium oxide thin films. Journal of Applied Physics, 123 044502.   
Last edited by: Richard Baschera 2018-02-16 08:30:30 Pop. 0.75%
wikindx 4.2.2 ©2014 | Références totales : 2620 | Requêtes métadonnées : 37 | Exécution de script : 0.0872 secs | Style : Harvard | Bibliographie : Bibliographie WIKINDX globale