IMN

Biblio. IMN

Liste de références

Affichage de 1 - 1 de 1 (Bibliographie: Bibliographie WIKINDX globale)
Paramètres :
Collection:  ECS J. Solid State Sci. Technol.
Ordonner par

Croissant
Décroissant
Utiliser tout ce qui est coché 
Utiliser tout ce qui est affiché 
Utiliser tous les items 
Antoun, G., Girard, A., Tillocher, T., Lefaucheux, P., Faguet, J., Maekawa, K., Cardinaud, C. & Dussart, R. (2022) Quasi In Situ XPS on a SiOxFy Layer Deposited on Silicon by a Cryogenic Process. ECS J. Solid State Sci. Technol. 11 013013.   
Last edited by: Richard Baschera 2022-02-10 17:00:11 Pop. 3%
wikindx 4.2.2 ©2014 | Références totales : 2859 | Requêtes métadonnées : 30 | Exécution de script : 0.10595 secs | Style : Harvard | Bibliographie : Bibliographie WIKINDX globale