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Plujat, B., Glenat, H., Bousquet, A., Frezet, L., Hamon, J., Goullet, A., Tomasella, E., Hernandez, E., Quoizola, S. & Thomas, L. (2020) SiCN:H thin films deposited by MW-PECVD with liquid organosilicon precursor: Gas ratio influence versus properties of the deposits. Plasma Process. Polym. 17 e1900138.   
Last edited by: Richard Baschera 2020-04-24 08:36:50 Pop. 1.5%
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