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Marcos, G., Rhallabi, A. & Ranson, P. (2008) Properties of deep etched trenches in silicon: Role of the angular dependence of the sputtering yield and the etched species redeposition. Appl. Surf. Sci. 254 3576–3584.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:58:42 Pop. 1%
Meyer, T., Girard, A., LeDain, G., Rhallabi, A., Baudet, E., Nazabal, V., Nemec, P. & Cardinaud, C. (2021) Surface composition and micromasking effect during the etching of amorphous Ge-Sb-Se thin films in SF6 and SF6 /Ar plasmas. Applied Surface Science, 549 149192.   
Last edited by: Richard Baschera 2021-04-09 11:41:07 Pop. 2%
wikindx 4.2.2 ©2014 | Références totales : 2830 | Requêtes métadonnées : 34 | Exécution de script : 0.09061 secs | Style : Harvard | Bibliographie : Bibliographie WIKINDX globale