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Lallement, L., Rhallabi, A., Cardinaud, C. & Fernandez, M. C. P. (2011) Modelling of fluorine based high density plasma for the etching of silica glasses. J. Vac. Sci. Technol. A, 29 051304.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:32:20 Pop. 0.25%
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