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Bulou, S., Le Brizoual, L., Miska, P., de Poucques, L., Hugon, R., Belmahi, M. & Bougdira, J. (2011) The influence of CH4 addition on composition, structure and optical characteristics of SiCN thin films deposited in a CH4/N-2/Ar/hexamethyldisilazane microwave plasma. Thin Solid Films, 520 245–250.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:32:19 Pop. 0.75%
Bulou, S., Le Brizoual, L., Hugon, R., De Poucques, L., Belmahi, M., Migeon, H.-N. & Bougdira, J. (2009) Characterization of a N-2/CH4 Microwave Plasma With a Solid Additive Si Source Used for SiCN Deposition. Plasma Process. Polym. 6 S576–S581.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:41:25 Pop. 1%
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