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Mot-clé:  Reactive sputtering and electrical discharge characteristics
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Karpinski, A., Ferrec, A., Richard-Plouet, M., Cattin, L., Djouadi, M. A., Brohan, L. & Jouan, P. .-Y. (2012) Deposition of nickel oxide by direct current reactive sputtering Effect of oxygen partial pressure. Thin Solid Films, 520 3609–3613.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:28:40 Pop. 1.75%
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