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Bulou, S., Le Brizoual, L., Miska, P., de Poucques, L., Bougdira, J. & Belmahi, M. (2012) Wide variations of SiCxNy:H thin films optical constants deposited by H-2/N-2/Ar/hexamethyldisilazane microwave plasma. Surf. Coat. Technol. 208 46–50.
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:28:38	Pop. 0.75%
Plujat, B., Glenat, H., Bousquet, A., Frezet, L., Hamon, J., Goullet, A., Tomasella, E., Hernandez, E., Quoizola, S. & Thomas, L. (2020) SiCN:H thin films deposited by MW-PECVD with liquid organosilicon precursor: Gas ratio influence versus properties of the deposits. Plasma Process. Polym. 17 e1900138.
Last edited by: Richard Baschera 2020-04-24 08:36:50	Pop. 2%