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Chanson, R., Rhallabi, A., Fernandez, M. C. & Cardinaud, C. (2013) Modeling of InP Etching Under ICP Cl2/Ar/N2 Plasma Mixture: Effect of N2 on the Etch Anisotropy Evolution. Plasma Process. Polym. 10 213–224.
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:23:31	Pop. 1%
Chanson, R., Rhallabi, A., Fernandez, M. C., Cardinaud, C. & Landesman, J. P. (2013) Modeling of inductively coupled plasma Ar/Cl-2/N-2 plasma discharge: Effect of N-2 on the plasma properties. J. Vac. Sci. Technol. A, 31 011301.
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:23:32	Pop. 1%