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Bouchoule, S., Vallier, L., Patriarche, G., Chevolleau, T. & Cardinaud, C. (2012) Effect of Cl-2- and HBr-based inductively coupled plasma etching on InP surface composition analyzed using in situ x-ray photoelectron spectroscopy.
J. Vac. Sci. Technol. A
, 30 031301.
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:28:39
Pop. 1%
Chanson, R., Martin, A., Avella, M., Jimenez, J., Pommereau, F., Landesman, J. P. & Rhallabi, A. (2010) Cathodoluminescence Study of InP Photonic Structures Fabricated by Dry Etching.
J. Electron. Mater.
39 688–693.
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:37:32
Pop. 1.75%
Chanson, R., Rhallabi, A., Fernandez, M. C. & Cardinaud, C. (2013) Modeling of InP Etching Under ICP Cl2/Ar/N2 Plasma Mixture: Effect of N2 on the Etch Anisotropy Evolution.
Plasma Process. Polym.
10 213–224.
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:23:31
Pop. 1%
Haidar, Y., Rhallabi, A., Pateau, A., Mokrani, A., Taher, F., Roqueta, F. & Boufnichel, M. (2016) Simulation of cryogenic silicon etching under SF6/O-2/Ar plasma discharge.
J. Vac. Sci. Technol. A
, 34 061306.
Last edited by: Richard Baschera 2017-02-02 13:42:02
Pop. 1%
Latham, C. D., Heggie, M. I., Gamez, J. A., Suarez-Martinez, I., Ewels, C. P. & Briddon, P. R. (2008) The di-interstitial in graphite.
J. Phys.-Condes. Matter
, 20 395220.
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:58:41
Pop. 1.75%