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Girard, A., Geneste, F., Coulon, N., Cardinaud, C. & Mohammed-Brahim, T. (2013) SiGe derivatization by spontaneous reduction of aryl diazonium salts. Appl. Surf. Sci. 282 146–155.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:23:30 Pop. 0.5%
Sarrazin, A., Posseme, N., Barros, P. P., Barnola, S., Claveau, G., Gharbi, A., Argoud, M., Chamiot-Maitral, G., Tiron, R., Nicolet, C., Navarro, C. & Cardinaud, C. (2016) PMMA removal selectivity to PS using dry etch approach: Sub-10nm patterning application. Lin, Q. & Engelmann, S. U. (Eds.), Advanced Etch Technology for Nanopatterning V Bellingham.   
Last edited by: Richard Baschera 2017-02-02 13:40:29 Pop. 0.5%
Vlachopoulou, M.-E., Kokkoris, G., Cardinaud, C., Gogolides, E. & Tserepi, A. (2013) Plasma Etching of Poly(dimethylsiloxane): Roughness Formation, Mechanism, Control, and Application in the Fabrication of Microfluidic Structures. Plasma Process. Polym. 10 29–40.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:23:32 Pop. 0.5%
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