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Boulard, F., Baylet, J. & Cardinaud, C. (2009) Effect of Ar and N-2 addition on CH4-H-2 based chemistry inductively coupled plasma etching of HgCdTe. J. Vac. Sci. Technol. A, 27 855–861.   
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Gaucher, A., Baylet, J., Rothman, J., Martinez, E. & Cardinaud, C. (2013) Characterization of Plasma Etching Process Damage in HgCdTe. J. Electron. Mater. 42 3006–3014.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:23:29 Pop. 1%
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