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Haidar, Y., Pateau, A., Rhallabi, A., Fernandez, M. C., Mokrani, A., Taher, F., Roqueta, F. & Boufnichel, M. (2014) SF6 and C4F8 global kinetic models coupled to sheath models. Plasma Sources Sci. Technol. 23 065037.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:01:54 Pop. 0.75%
Meyer, T., Girard, A., LeDain, G., Rhallabi, A., Baudet, E., Nazabal, V., Nemec, P. & Cardinaud, C. (2021) Surface composition and micromasking effect during the etching of amorphous Ge-Sb-Se thin films in SF6 and SF6 /Ar plasmas. Applied Surface Science, 549 149192.   
Last edited by: Richard Baschera 2021-04-09 11:41:07 Pop. 1.75%
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