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El Mel, A. A., Ershov, S., Britun, N., Ricard, A., Konstantinidis, S. & Snyders, R. (2015) Combined optical emission and resonant absorption diagnostics of an Ar-O-2-Ce-reactive magnetron sputtering discharge. Spectroc. Acta Pt. B-Atom. Spectr. 103 99–105.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 18:36:43 Pop. 1%
Raballand, V., Cartry, G. & Cardinaud, C. (2007) A model for Si, SiCH, SiO2, SiOCH, and porous SiOCH etch rate calculation in inductively coupled fluorocarbon plasma with a pulsed bias: Importance of the fluorocarbon layer. J. Appl. Phys. 102 063306.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 22:02:29 Pop. 0.75%
Raballand, V., Cartry, G. & Cardinaud, C. (2007) Porous SiOCH, SiCH and SiO2 etching in high density fluorocarbon plasma with a pulsed bias. Plasma Process. Polym. 4 563–573.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 22:02:29 Pop. 1%
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