Javascript is disabled or not supported in your browser. JavaScript must be enabled in order for you to use WIKINDX fully. Enable JavaScript through your browser options then try again, otherwise, try using a different browser.

Biblio. IMN

Wikindx
Références
- Signets...
  - Ajouter
- Référence au hasard
- Dernière liste consultée
Recherche
- Recherche simple
- Recherche avancée
- Sélection par critères
- Lister tout par...
- Parcourir par...
  - Type
  - Créateur
  - Citation
  - Collection...
    - Tout
    - Livre
    - Revue
    - Actes
  - Éditeurs...
    - Tout
    - Livre
    - Conférence
  - Année
  - Mots-clés
  - Catégorie
  - Sous-catégorie
  - Langue
  - Utilisateur
  - Département
  - Institution
- Catégories

Liste de références

Affichage de 1 - 6 de 6 (Bibliographie: Bibliographie WIKINDX globale)
Paramètres :
Mot-clé: chlorine

Ordonner par

Croissant
Décroissant

Utiliser tout ce qui est coché
Utiliser tout ce qui est affiché
Utiliser tous les items

Bouchoule, S., Chanson, R., Pageau, A., Cambril, E., Guilet, S., Rhallabi, A. & Cardinaud, C. (2015) Surface chemistry of InP ridge structures etched in Cl-2-based plasma analyzed with angular XPS. J. Vac. Sci. Technol. A, 33 05E124.
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 18:36:41	Pop. 1.25%
Chanson, R., Rhallabi, A., Fernandez, M. C. & Cardinaud, C. (2013) Modeling of InP Etching Under ICP Cl2/Ar/N2 Plasma Mixture: Effect of N2 on the Etch Anisotropy Evolution. Plasma Process. Polym. 10 213–224.
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:23:31	Pop. 1%
Chanson, R., Bouchoule, S., Cardinaud, C., Petit-Etienne, C., Cambril, E., Rhallabi, A., Guilet, S. & Blanquet, E. (2014) X-ray photoelectron spectroscopy analysis of the effect of temperature upon surface composition of InP etched in Cl-2-based inductively coupled plasma. J. Vac. Sci. Technol. B, 32 011219.
Added by: Florent Boucher 2016-04-29 09:26:45	Pop. 1%
Chanson, R., Rhallabi, A., Fernandez, M. C., Cardinaud, C., Bouchoule, S., Gatilova, L. & Talneau, A. (2012) Global Model of Cl-2/Ar High-Density Plasma Discharge and 2-D Monte-Carlo Etching Model of InP. IEEE Trans. Plasma Sci. 40 959–971.
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:28:39	Pop. 1%
Elmonser, L., Rhallabi, A., Gaillard, M., Landesman, J. P., Talneau, A., Pommereau, F. & Bouadma, N. (2007) Modeling of the chemically assisted ion beam etching process: Application to the GaAs etching by Cl-2/Ar+. J. Vac. Sci. Technol. A, 25 126–133.
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 22:02:31	Pop. 1.5%
Lallement, L., Rhallabi, A., Cardinaud, C. & Fernandez, M. C. P. (2011) Modelling of fluorine based high density plasma for the etching of silica glasses. J. Vac. Sci. Technol. A, 29 051304.
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:32:20	Pop. 1%