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Dain, G. L., Laourine, F., Guilet, S., Czerwiec, T., Marcos, G., Noel, C., Henrion, G., Cardinaud, C., Girard, A. & Rhallabi, A. (2021) Etching of iron and iron-chromium alloys using ICP-RIE chlorine plasma. Plasma Sources Science and Technology, 30 095022.   
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