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Auteur: Zgheib

Zgheib, J., Jouan, P. Y. & Rhallabi, A. (2021) A high-power impulse magnetron sputtering global model for argon plasma-chromium target interactions. Journal of Vacuum Science & Technology A, 39 043004.
Last edited by: Richard Baschera 2021-07-02 13:54:32	Pop. 1.75%