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Vallee, C., Bonvalot, M., Belahcen, S., Yeghoyan, T., Jaffal, M., Vallat, R., Chaker, A., Lefèvre, G., David, S., Bsiesy, A., Posseme, N., Gassilloud, R. & Granier, A. (2020) Plasma deposition-Impact of ions in plasma enhanced chemical vapor deposition, plasma enhanced atomic layer deposition, and applications to area selective deposition. Journal of Vacuum Science & Technology A, 38 033007.   
Last edited by: Richard Baschera 2020-05-15 08:31:27 Pop. 0.75%
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