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Auteur:  Rammal
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Rammal, M., Rhallabi, A., Neel, D., Make, D., Shen, A. & Djouadi, A. (2019) AlN Etching under ICP Cl-2/BCl3/Ar Plasma Mixture: Experimental Characterization and Plasma Kinetic Model. Mrs Advances, 4 1579–1587.   
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Streque, J., Camus, J., Laroche, T., Hage-Ali, S., M’Jahed, H., Rammal, M., Aubert, T., Djouadi, M. A., Ballandras, S. & Elmazria, O. (2020) Design and Characterization of High-Q SAW Resonators Based on the AlN/Sapphire Structure Intended for High-Temperature Wireless Sensor Applications. IEEE Sensors Journal, 20 6985–6991.   
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