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Auteur:  Thomas
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Diop, A., Ngoue, D., Mahammou, A., Diallo, B., Plujat, B., Bousquet, A., Sauvage, T., Quoizola, S., Richard-Plouet, M., Hamon, J., Soum-Glaude, A., Tomasella, E. & Thomas, L. (2023) Comprehensive study of WSiC:H coatings synthesized by microwave-assisted RF reactive sputtering. Surface and Coatings Technology, 459 129408.   
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Plujat, B., Glenat, H., Hamon, J., Gazal, Y., Goullet, A., Hernandez, E., Quoizola, S. & Thomas, L. (2018) Near-field scanning microscopy and physico-chemical analysis versus time of SiCN:H thin films grown in Ar/NH3/TMS gas mixture using MW-Plasma CVD at 400 degrees C. Plasma Processes and Polymers, 15 e1800066.   
Last edited by: Richard Baschera 2018-12-19 10:39:39 Pop. 1%
Plujat, B., Glenat, H., Bousquet, A., Frezet, L., Hamon, J., Goullet, A., Tomasella, E., Hernandez, E., Quoizola, S. & Thomas, L. (2020) SiCN:H thin films deposited by MW-PECVD with liquid organosilicon precursor: Gas ratio influence versus properties of the deposits. Plasma Process. Polym. 17 e1900138.   
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