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Sarrazin, A., Posseme, N., Pimenta-Barros, P., Barnola, S., Gharbi, A., Argoud, M., Tiron, R. & Cardinaud, C. (2018) Block copolymer selectivity: A new dry etch approach for cylindrical applications. Journal of Vacuum Science & Technology B, 36 041803.   
Last edited by: Richard Baschera 2018-08-20 09:24:00 Pop. 1%
Sarrazin, A., Posseme, N., Pimenta-Barros, P., Barnola, S., Tiron, R. & Cardinaud, C. (2019) New CH4-N-2 dry etch chemistry for poly(methyl methacrylate) removal without consuming polystyrene for lamellar copolymers application. J. Vac. Sci. Technol. B, 37 030601.   
Last edited by: Richard Baschera 2019-11-29 12:41:07 Pop. 0.75%
Sarrazin, A., Posseme, N., Pimenta-Barros, P., Barnola, S., Gharbi, A., Argoud, M., Tiron, R. & Cardinaud, C. (2016) PMMA removal selectivity to polystyrene using dry etch approach. J. Vac. Sci. Technol. B, 34 061802.   
Last edited by: Richard Baschera 2017-02-02 13:48:42 Pop. 0.5%
Sarrazin, A., Pimenta-Barros, P., Posseme, N., Barnola, S., Gharbi, A., Argoud, M., Tiron, R. & Cardinaud, C. (2015) PMMA removal selectivity to PS using dry etch approach for sub-10nm node applications.   
Last edited by: Richard Baschera 2018-03-07 11:37:08 Pop. 1%
Vallee, C., Bonvalot, M., Belahcen, S., Yeghoyan, T., Jaffal, M., Vallat, R., Chaker, A., Lefèvre, G., David, S., Bsiesy, A., Posseme, N., Gassilloud, R. & Granier, A. (2020) Plasma deposition-Impact of ions in plasma enhanced chemical vapor deposition, plasma enhanced atomic layer deposition, and applications to area selective deposition. Journal of Vacuum Science & Technology A, 38 033007.   
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