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Auteur:  Beck
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Landesman, J.-P., Jimenez, J., Levallois, C., Pommereau, F., Frigeri, C., Torres, A., Leger, Y., Beck, A. & Rhallabi, A. (2016) Defect formation during chlorine-based dry etching and their effects on the electronic and structural properties of InP/InAsP quantum wells. Journal of Vacuum Science & Technology A, 34 041304.   
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