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Auteur:  Eon
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Eon, D., Raballand, V., Cartry, G. & Cardinaud, C. (2007) High density fluorocarbon plasma etching of methylsilsesquioxane SiOC(H) low-k material and SiC(H) etch stop layer: surface analyses and investigation of etch mechanisms. J. Phys. D-Appl. Phys. 40 3951–3959.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 22:02:29 Pop. 0.5%
Eon, D., Raballand, V., Cartry, G., Cardinaud, C., Vourdas, N., Argitis, P. & Gogolides, E. (2006) Plasma oxidation of polyhedral oligomeric silsesquioxane polymers. J. Vac. Sci. Technol. B, 24 2678–2688.   
Added by: Florent Boucher 2016-05-12 13:21:36 Pop. 0.5%
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