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Bailly, F., David, T., Chevolleau, T., Darnon, M., Posseme, N., Bouyssou, R., Ducote, J., Joubert, O. & Cardinaud, C. (2010) Roughening of porous SiCOH materials in fluorocarbon plasmas. J. Appl. Phys. 108 014906.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:37:32 Pop. 1%
Sarrazin, A., Posseme, N., Barros, P. P., Barnola, S., Claveau, G., Gharbi, A., Argoud, M., Chamiot-Maitral, G., Tiron, R., Nicolet, C., Navarro, C. & Cardinaud, C. (2016) PMMA removal selectivity to PS using dry etch approach: Sub-10nm patterning application. Lin, Q. & Engelmann, S. U. (Eds.), Advanced Etch Technology for Nanopatterning V Bellingham.   
Last edited by: Richard Baschera 2017-02-02 13:40:29 Pop. 0.75%
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