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Auteur:  Boulard
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Boulard, F., Baylet, J. & Cardinaud, C. (2009) Effect of Ar and N-2 addition on CH4-H-2 based chemistry inductively coupled plasma etching of HgCdTe. J. Vac. Sci. Technol. A, 27 855–861.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:41:24 Pop. 0.5%
Boulard, F., Baylet, J. & Cardinaud, C. (2010) Influence of Cadmium Composition on CH4-H-2-Based Inductively Coupled Plasma Etching of Hg1-x Cd (x) Te. J. Electron. Mater. 39 1256–1261.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:37:32 Pop. 0.75%
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