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Bailly, F., David, T., Chevolleau, T., Darnon, M., Posseme, N., Bouyssou, R., Ducote, J., Joubert, O. & Cardinaud, C. (2010) Roughening of porous SiCOH materials in fluorocarbon plasmas. J. Appl. Phys. 108 014906.
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:37:32	Pop. 1%
Bouchoule, S., Vallier, L., Patriarche, G., Chevolleau, T. & Cardinaud, C. (2012) Effect of Cl-2- and HBr-based inductively coupled plasma etching on InP surface composition analyzed using in situ x-ray photoelectron spectroscopy. J. Vac. Sci. Technol. A, 30 031301.
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:28:39	Pop. 1%