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Bouchoule, S., Vallier, L., Patriarche, G., Chevolleau, T. & Cardinaud, C. (2012) Effect of Cl-2- and HBr-based inductively coupled plasma etching on InP surface composition analyzed using in situ x-ray photoelectron spectroscopy. J. Vac. Sci. Technol. A, 30 031301.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:28:39 Pop. 0.75%
Chanson, R., Rhallabi, A., Fernandez, M. C., Cardinaud, C., Bouchoule, S., Gatilova, L. & Talneau, A. (2012) Global Model of Cl-2/Ar High-Density Plasma Discharge and 2-D Monte-Carlo Etching Model of InP. IEEE Trans. Plasma Sci. 40 959–971.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:28:39 Pop. 0.5%
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